چکیده: مطالعه ازدارندگی دو شیف باز با نامهای
bis-(2-hydroxy-3-methoxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine و
bis-(2-hydroxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine روی مس در اسید سولفوریک
نیم مولار با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی (AC امپدانس و پلاریزاسیون
تافل) انجام شده است. نتایج بدست آمده از منحنی های نایکوئیست نشان می دهد
که افزایش غلظت این دو شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار و کاهش ظرفیت
لایه دو گانه و در نتیجه باعث افزایش راندمان حفاظت آنها برای مس در اسید
سولفوریک نیم مولار شده است. این دو شیف باز ممانعت کننده های مناسبی برای
مس در اسید سولفوریک نیم مولار هستند و هر دو ماده از نوع ممانعت کننده های
آندی می بشند و به صورت جذب شیمیایی بر روی سطح مس مانع از خوردگی آن می
شوند و این دو شیف باز از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند. نویسندگان: فاطمه بقایی راوری، اطهره دادگری نژاد
تعداد مشاهده:
562
مشاهده
فرمت فایل دانلودی:.zip
فرمت فایل اصلی: pdf
تعداد صفحات: 10
حجم فایل:117
کیلوبایت
قیمت:
1,900 تومان
پس از پرداخت، لینک دانلود فایل برای شما نشان داده می شود.
پرداخت و دریافت فایل
راهنمای استفاده:
مناسب جهت استفاده دانشجویان رشته متالوژی